高溫立式爐
高溫立式爐主重要運用于：半導體高精度高溫熱處置工藝。針關於熱處置中溫度低且精度高的工藝環節。
技術參數
| 工藝溫度規模 | 100--300℃ |
| 恒溫區長度 | 250mm（可定制） |
| 恒溫區內單點溫度穩固性 | ≤±0.5℃ |
| 恒溫區內單點溫度反復性 | ≤±0.5℃ |
| 升溫時光 | ≤20min |
高溫
高溫立式爐
高溫立式爐主重要運用于：半導體高精度高溫熱處置工藝。針關於熱處置中溫度低且精度高的工藝環節。
技術參數
| 工藝溫度規模 | 100--300℃ |
| 恒溫區長度 | 250mm（可定制） |
| 恒溫區內單點溫度穩固性 | ≤±0.5℃ |
| 恒溫區內單點溫度反復性 | ≤±0.5℃ |
| 升溫時光 | ≤20min |
