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高溫立式爐

       高溫立式爐主重要運用于:半導體高精度高溫熱處置工藝。針關於熱處置中溫度低且精度高的工藝環節。

技術參數

工藝溫度規模 100--300℃
恒溫區長度 250mm(可定制)
恒溫區內單點溫度穩固性 ±0.5
恒溫區內單點溫度反復性 ±0.5
升溫時光 20min
高溫