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VTM單晶爐

       VTM單晶爐是根據我公司自立研發的VTM工藝辦法所設計的新型單晶工藝設備, 設備由加熱體系、活動體系支持機構、電控體系四部門構成,實用碲鋅镉、碲化镉、銻化镓等多種化合物半導資料的單晶發展。

 

VTM單晶爐設備特色

· 晶體發展界面引入磁力掌握,穩固晶體發展偏向,進步了單晶制品率;
· 零件的機械活動及加熱體系采取PC掌握,菜雙數據可輸出,汗青數據可查詢,具有聲、光報警,臨盆反復性高;
· 加熱體系分主加熱裝配和幫助加熱裝配。主加熱掌握全體溫度。幫助加熱可挪動。完成部分加熱的高精度,增強了溫場的可控性;
· 活動體系采取一鍵式掌握。既知足裝爐時的疾速起落,又可以準確掌握晶體發展時爐體的遲緩行程速度,大大進步臨盆效力;
· 支持機構采取分體式設計,保證穩固性同時有用阻隔了震撼,進步單晶發展的質量及制品率;
· 采取剛性傳念頭構,傳動效力高,穩固性強。

 

技術參數

實用爐體規模 2~6英寸
爐體構造 立式單管狀
掌握方法 微控
爐體極限任務溫度 1350℃
溫度顯示精度 0.1℃
溫度掌握精度 優于±0.2
爐體舉措形式 立式起落/閣下扭轉
爐體起落行程 L有用=620mm
VTM單晶爐