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  • 第二代半導體資料全主動清洗機
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  • 手套箱
    手套箱是一種供給無水無氧情況的設備,該設備重要由手套箱箱體、過渡倉、輪回汙染再生體系、掌握體系、真空體系、顯示體系構成,可分離與特種燈臨盆設備、激光設備、真空鍍膜設備、真空烘箱、水氧顯示體系、煙塵過濾體系、溶劑純化體系、氣體汙染體系、高溫冰箱等集成任務。外型雅觀慷慨,持續運轉時光長、穩固靠得住、主動化掌握、操作簡略、保護便利。
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  • CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機
    CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機重要由鍍膜腔室(φ500×H430mm),永磁圓形立體靶,真空體系,扭轉加熱基片台,氣路體系,電氣掌握及報警掩護體系等構成。
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  • 低溫退火爐
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  • 高溫立式爐
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