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CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機重要由鍍膜腔室（φ500×H430mm），永磁圓形立體靶，真空體系，扭轉加熱基片台，氣路體系，電氣掌握及報警掩護體系等構成。
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PS-200單靶磁控濺射鍍膜機
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